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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSP300S-2DC1RF
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備
詳情介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。三個3英寸磁控靶,一支是強磁靶,2支永磁靶;所配電源為2個500W直流電源和1個300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進一步提高您的實驗效率。

實驗室磁控濺射鍍膜儀價格

三靶磁控鍍膜儀應(yīng)用范圍:

該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

三靶磁控濺射儀---靶槍下置(英文操作界面)

產(chǎn)品型號

CY-MSP300S-2DC1RF

濺射電源

安裝有2個直流,一個射頻

直流(DC)電源:500W  射頻: 300W

真空腔體

真空腔體:450 mm Dia x 450 mm h,采用不銹鋼制作觀察窗口:  100 mm diameter

磁控濺射頭

儀器中安裝有33英寸磁控濺射靶槍(其中的一支是強磁靶,2支永磁靶),而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫

載樣臺

載樣臺尺寸:150mm dia.(載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))

載樣臺*高可加熱溫度為750℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

儀器內(nèi)部安裝有1個質(zhì)量流量計

量程為:0-200sccm (氬氣)

氣體流量設(shè)置可以在15.6寸屏智能控制系統(tǒng)

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作600L/S

真空計

英孚康皮拉尼真空計MPG400

測量范圍: 5 x 10-9 mbar ---大氣壓

薄膜測厚儀

石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ? 

電壓

220V 50HZ

備注

1.33寸濺射靶(其中的一支是強磁靶,2支永磁靶)

2.1路流量計

3.不銹鋼真空腔體

4.分子泵組

5.膜厚檢測儀

6.2臺直流電源,一臺射頻電源

7.水冷機組

8.帶旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺

9.15.6寸屏智能控制系統(tǒng)

10.空氣壓縮機

11.電控氣動閘板閥

12.電控氣動切斷閥

13.電控氣動旁抽閥

14. 英孚康真空計 MPG 400 測量范圍